「モデリング技術の基礎と実践」講座 改定第10回

開催日2019年02月07日(木)~08日(金)
参加申込期間2018年08月02日(木)~2019年02月06日(水)
会場化学工学会会議室
会場住所〒112-0006 東京都文京区小日向4-6-19 
東京メトロ丸の内線茗荷谷駅(東京駅から11分)下車徒歩1分
URLhttp://www.scej.org/access.html
参加費
会員
正会員
48,600円
学生会員
48,600円
非会員の方
維持会員/特別会員の社員
59,400円
地区会員の社員
70,200円
会員外
81,000円
参加申込はこちら
定員10名
現在参加申込数2名

《趣旨》
 プロセス設計、プラント運転にはプロセスシミュレータが広範囲に利用されています。シミュレータをより効果的に活用するには、基礎工学原理の理解が不可欠です。
 応用数学とモデリングの基礎を、手計算、Excel、方程式解法ソフトを用いながら学び、実験データからモデルをどう作るかについて、微分方程式・代数方程式の立て方と解き方を中心にした演習を行い、化学プロセスで取り扱う現象のモデリングについて実践的な基礎を学ぶ機会を提供します。

《対象》以下のいずれかに該当される方
・反応や各種単位操作に関連した現象のモデリング技術を学んで実践に生かしたい方
・企業経験3年程度以上の技術系の方

《受講のメリット》
(1)プロセスシミュレーションモデリング技術に関する知識とアプローチの理解が深まり、実践に生かすことができます。
(2)プロセスデータ・実験データを見た時に、関連したモデルを作成し、それを用いて考察する習慣をつけるための第一歩となります。

《プログラム》
第1日:2月7日(木)9:55~17:30

諸連絡(9:55~10:00)
1.立式と解法の基本(EQUATRAN導入教育含む) (10:00~17:30)
 1.1 モデリング(立式)とは
 1.2 代数方程式と微分方程式の解法

第2日:2月8日(金)9:30~17:00
2.反応操作
 2.1 反応式からの微分方程式の導出
 2.2 反応速度定数の求め方
 2.3 反応操作の解析
3.気液平衡
 3.1 Raoultの法則と理想系気液平衡
 3.2 非理想系気液平衡
 3.3 会合反応と気液平衡
 3.4 状態方程式と高圧気液平衡
4.(参考)プラントデータの解析
5.まとめ

※関数電卓を各自ご持参下さい。
※演習用PC及び方程式解法ソフトは当会でご準備致します。

<用いるソフトウエア>方程式解法ソフト(EQUATRAN-G for Windows)を開発・販売元である株式会社オメガシミュレーション社のご好意により利用できます。

《ソフトウェアに関する受講者の知識》
1)Excel :ソルバー機能を使った経験
 ※ソルバー機能を使った経験が少ない方は、「化学工学」2004年7月号pp.382-386を自習されることをご推奨します。

2)方程式解法ソフト:不要(冒頭1時間強で、化学工学例題を用いて操作方法を説明します)

《講師》
熊谷 善夫氏(株式会社PreFEED、博士(工学))
横山 克己氏(株式会社PreFEED、博士(工学))

《受講者の特典》
本講座に関する質問を受講後3ヶ月間はメールにて受付いたします。

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出席基準を満たす受講者には、最終日に受講証明書を発行するとともに、継続教育ポイントを20pt授与致します。

継続教育ポイントの合計が100ptに達した受講者には、100ptにつき1回、「化学工学技士」資格認定試験を受験する機会を無料で提供します。

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参加費には開催日に適用される消費税(8%)が含まれます。

※6名に達しない場合は、開催中止となることがございます。
継続教育セミナー 一覧はこちらより

CPDポイント:本講座は1時間1ptのCPDポイントが得られます。(個人正会員の方)
CPDガイドラインは「化学技術者の資格制度」の関係リンクよりご確認下さい。

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