「ガス分離膜・浸透気化膜分離プロセス及び膜反応器の設計」講座 第7回

開催日2015年10月05日(月)~06日(火)
会場化学工学会会議室
会場住所〒112-0006 東京都文京区小日向4-6-19 
東京メトロ丸の内線茗荷谷駅(東京駅から11分)下車徒歩1分
URLhttp://www.scej.org/access.html
参加費
会員
正会員
48,600円
非会員の方
維持会員/特別会員の社員
59,400円
地区会員の社員
70,200円
会員外
81,000円
参加申込は終了いたしました。

都合により、7月23日(木)~24日(金)の開催は中止させて頂きました。10月5日(月)~6日(火)に日程を変更し開催致します。

《趣旨》
 ガス分離膜・浸透気化膜の基礎を理解するとともに、ガス分離膜・浸透気化膜装置及び膜反応器の設計法を習得していただきます。また、実際のプラントに即した豊富な演習問題を解くことにより、設計法を理解していただきます。

《対象》以下のいずれかに該当される方
・膜分離や膜反応器を扱う研究者・技術者(3~5年程度の経験者)
・プラントのプロセス設計を行う技術者(3~5年程度の経験者)
・膜分離設備設計技術者(3~5年程度の経験者)

《受講のメリット》
(1)ガス系分離膜の基礎及び実際を学べます。
(2)ガス系分離膜装置の設計法を学べます。
(3)パーベーパレーション、蒸気透過について学べます。
(4)膜反応器について学べます。
(5)演習で使用したexcelファイルはお持ち帰りできます。

《プログラム》

第1日:7月23日(木) ⇒10月5日(月) 10:00~17:00
1. ガス系分離膜の基礎(原谷氏)
2. ガス系分離膜の実際(原谷氏)
3. ガス系分離膜装置の設計法(原谷氏)

第2日:7月24日(金) ⇒10月6日(火) 9:30~16:30
4. PV・VPプロセスの基礎と応用(9:30~10:55;中根氏)
5. ゼオライト膜を用いるPV・VPのプロセス設計(11:05~12:30;齋藤氏)
6. 膜反応器の基礎(13:30~;都留氏)
7. 膜反応器の設計基礎(都留氏)
8. 膜反応器の設計法(~16:30;都留氏)

※演習用PCは当会でご準備致します。(但し15名限定)

《講師》経験豊富な大学の先生や実務家
原谷賢治氏((独)産業技術総合研究所 )
中根 堯氏((独)産業技術総合研究所 客員研究員)
齋藤準二氏(元三菱化学㈱イオン交換樹脂研究所)
都留稔了氏(広島大学大学院工学研究科物質化学システム専攻)

《受講者の特典》
本講座に関する質問を受講後3ヶ月間はメールにて受付いたします。

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参加費には開催日に適用される消費税(8%)が含まれます。

講座内容を十分理解したと思われる受講者に対して修了証を授与します。
※6名に達しない場合は、開催中止となることがございます。
継続教育セミナー 一覧はこちらより

CPDポイント:本講座は1時間1ptのCPDポイントが得られます。(個人正会員の方)
CPDガイドラインは「化学技術者の資格制度」の関係リンクよりご確認下さい。